| 1. | Q. |
レジストはウェーハ チャージングに影響を及ぼしますか ? |
| A. | 影響があります。
ウェーハ表面上
にレジストがあると、ウェーハ チャージングが非常に
増加します。以下のペーパーに説明してある通りです。
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| 2. | Q. | レジストのトポグラフィ（パターン配置、サイズ、形状等）がチャージングに与える影響はどうですか？ |
| A. | パターン化されたレジストによるチャージングに対して大きな影響を及ぼします。或るケースでは、チャージングの大部分がトポグラフィの影響によることもあります。
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| 3. | Q. | CHARM®-2 ウェーハ
を使用して、「エレクトロンシェーディング」効果など、パターン化されたトポグラフィーに依存するチャージン
グの影響を調べることはできますか ? |
| A. | できます。CHARM®-2 の「アンテナ」上にレジストパター
ンを描いて、製品ウェーハ上に存在している
状態を再現することで可能です。WCM 社では、この目的のために、「標準的
な」
レジストマスクを提供しています。
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| 4. | Q. | お客様指定のデザインルールでのトポグラフィーに依存するチャージングの影響はどのように調べればよいですか
? |
| A. | WCM 社デザインの
特製レジストマスクを使用することができます。
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Wafer Charging Monitors, Inc.