Wafer Charging Monitors, Inc.

よく寄せられる質問
(Advanced FAQ)

プラズマ CVD 時のウェーハチャージング

1.	Q.	プラズマ CVD ツールで CHARM®-2 ウェーハを使用することはできますか ?
	A.	できます。形成された膜は、試験前に除去する必要がありますが、エッチング液の使用により簡単に取り除くことができます。当社は、何度もこうして実行しています。詳細情報に関しては、WCM 社までご連絡ください。
2.	Q.	CHARM®-2 センサーでは、酸化膜の成長中に (酸化膜がダメージを受けやすい場合) 高温でのチャージングと CVD と関連のない低温でのチャージングを区別することができますか ?
	A.	できます。CHARM®-2 ウェーハには、多くのセンサーがあり、その中には、温度に敏感なものもあれば、そうでないものがあります。温度に敏感なセンサーとそうでないセンサーの特性変化を比較することにより、高温時および低温時のどちらでチャージングが起こったのかを特定することが可能です。