WCM   Wafer Charging Monitors, Inc.

よく寄せられる質問
(Advanced FAQ)


ウェーハチャージングのトポグラフィー & レジスト効果

1.Q. レジストはウェーハ チャージングに影響を及ぼしますか ?
A. 影響があります。 ウェーハ表面上 にレジストがあると、ウェーハ チャージングが非常に 増加します。以下のペーパーに説明してある通りです。
2.Q. レジストのトポグラフィ(パターン配置、サイズ、形状等)がチャージングに与える影響はどうですか?
A. パターン化されたレジストによるチャージングに対して大きな影響を及ぼします。或るケースでは、チャージングの大部分がトポグラフィの影響によることもあります。

3.Q. CHARM®-2 ウェーハ を使用して、「エレクトロンシェーディング」効果など、パターン化されたトポグラフィーに依存するチャージン グの影響を調べることはできますか ?
A. できます。CHARM®-2 の「アンテナ」上にレジストパター ンを描いて、製品ウェーハ上に存在している 状態を再現することで可能です。WCM 社では、この目的のために、「標準的 な」 レジストマスクを提供しています。

4.Q. お客様指定のデザインルールでのトポグラフィーに依存するチャージングの影響はどのように調べればよいですか ?
A. WCM 社デザインの 特製レジストマスクを使用することができます。


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