Wafer Charging Monitors, Inc.|
Wafer Charging Monitors, Inc. |
| 1. | Q. | 「ウェーハ チャージング」とは何ですか ? |
| A. |
ウェーハ処理工程の最中にウェーハ表面に電荷が溜まる現象（チャージング）です。 | |
| 2. | Q. | どのようなウェハーでチャージングが発生するのですか ? |
| A. | イオ
ン注入、プラズマ エッチング、アッシング、プラズマ CVD、スプレー洗浄です。
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| 3. | Q. | チャージングはウェーハにダメージを 与える可能性がありますか ? |
| A. | あります。このダメージは、ウェーハ歩留り、製品
の信頼性、あるいはその両方を低下させます。 | |
| 4. | Q. | どのような構造がチャージングダメージを受け易いですか ? |
| A. | 薄い
ゲート
酸化膜、浅い接合、EEPROM セルなどです。 | |
| 5. | Q. | ウェーハチャージングで問題があった場合、ど うすればよいですか ? |
| A. | WCM 社の 「CHARM®-2」 ウェーハ チャージングモニタおよび ChargeMap®
ソフ
トウェアをご使用ください。 | |
| 6. | Q. | どの装置がチャージング ダメージの原因となっ ているかを判別するのに一番よい方法は ? |
| A. | チャージングを発生させる可能性のある装置で CHARM®-2 ウェーハを使用してみてください。チャージングの問題があれば、問題を起こした装置が突出して（SORE THUMB）いるのが判ります。 | |
| 7. | Q. | CHARM®-2 ウェーハを使用すると、生産用装置の評価に使用できますか ? |
| A. | できます。これは、現在使用中の「良好」 (ウェーハ チャ
ー
ジング ダメージの原因とならないという意味で) とされる装置から得られた
CHARM®-2
の結果と、新しい装置から得られた CHARM®-2 の結果を比較することで可能と
なります。新しいツールの CHARM®-2 の結果が現在使用しているツール
と比べて同等又はそれ以上の場合は、新しいツールで処理されたウェーハもウェーハ
チャージング ダメージは受けないはずです。 | |
| 8. | Q. | WCM 社の「CHARM®-2」ウェーハチャージング モニタ ウェーハはどのように機能しますか ? |
| A. |
実際のウェーハ処理同じ条件下でチャージング量を測定することができます。特別に設計された EEPROM ベースのセンサーを内蔵しています。
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| 9. | Q. | CHARM®-2 ウェーハを使用するために、装置 を改造する必要がありますか ? |
| A. | ありません。 | |
| 10. | Q. | CHARM®-2 ウェーハはどのように使用すればよいで すか ? |
| A. |
実際に使用されているウェーハ処理工程で処理し、EEPROM センサ
ー
を測定して、チャージング量を決定します。 | |
| 11. | Q. | 加工装置で ウェーハ チャージングの量を正確に測るには、 分割して実験する場合、CHARM®-2 ウェーハ は何枚必要ですか ? |
| A. | 1 枚です。CHARM®-2 ウェーハは、
繰り返し再使用が可能なため、コスト効率が大変優れています。 |
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| 12. | Q. | CHARM®-2 の 結果は再現性はどうですか ? |
| A. | CHARM®-2 ウェーハは、使用前に較正されているため、結果はウェーハ対ウェ
ーハ、また、ロット対ロットなどで、高い再現性持っております。 |
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| 13. | Q. | 製品ウェーハへのダメージを予測する場合に、 これらのモニタはどの程度信頼できますか ? |
| A. | チャージング結果が「良好」である場合には、チャージン
グダメージの可能性は、非常に低くなります。 チャージング結果が「良好でない」場 合、 ダメージの可能性があります。 結果が「その中間」の場合には、安全性を 確認するため、さらにテストする必要があります。 | |
| 14. | Q. | モニタ ウェーハを測定するために、独自のテス トソフトウェアを作成する必要がありますか ? |
| A. | ありません。Hewlett-Packard 社および Kiethley 社共に、両社のテスターで使用するための CHARM® モニタテスト ソフトウェ
アを備えています。 | |
| 15. | Q. | テスターを持っていない場合でも、CHARM®-2 ウェーハを使用することはできますか ? |
| A. | できます。WCM 社では、ご使用のウェーハをテストするこ
と
ができ、結果を要約したレポート (ウェーハ マップおよび J-V
グラフ付き) を提供しております。 | |
| 16. | Q. | WCM 社では、CHARM®-2 用アプリケーション の サービスをしてもらえますか ? |
| A. | はい。WCM では、アプリケーション及びデータ解析を全てのお客様に提供しております。 |
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| 17. | Q. | 「ウェーハ チャージングモニタ」の使用対象者 は ? |
| A. | 新プロセスや設計した装置をチェックする半導体装置メーカーや、ウェーハ製
造の確認又は改良するプロセスエンジニアです。 | |
| 18. | Q. | CHARM®-2 ウェーハ はどういった目的で使 用されるのですか ? |
| A. | CHARM®-2ウェーハ は、一般的に問題を起こした装置の特定、装置の安定性のモニタリング、装置およびプロセスの改良、メンテナンス後の装置の確認、ウェーハスループッ
トの向上といった一般的な目的で使用されます。 | |
| 19. | Q. | これらのモニタの資料に関する問い合せは、どこへ 連絡すればよいですか ? |
| A. | WCM 社では、「自由にお問い合わせできる」の照会先として同意を得たお客様名と電話番号を 配布して おります。 |
| プラズマ エッ チ | イオン注入 | プラズマ CVD |
| 一般事項 | トポグラフィー & レジストの影響（パターン配置、形状） | |
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