| 1. | Q. |
CHARM®-2 웨이퍼 상에서 센서는 실제 무엇을 측정합니까? |
| A. |
CHARM®-2 웨이퍼 상에서 센서는 다음을 측정합니다.
- 게이트 산화물에서 생겨난 차징 전위의 크기 및 극성
- 웨이퍼에 부딪치는 전하 흐름(charge fluxes)의 크기 및 극성
- UV 강도
또한 CHARM®-2 웨이퍼는 웨이퍼의 표면 위에서 장치가 받게 되는 차징 소스의
J-V 특성을 측정합니다.
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| 2. | Q. |
웨이퍼 전위만 감시하면 충분합니까? |
| A. |
아니오. 장치 손상을 일으키기 때문에 차징 전류도 알아야 합니다.
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| 3. | Q. |
CHARM®-2 웨이퍼 상에서 포토레지스트를 사용해야 합니까? |
| A. |
어디에 적용하는지에 따라 다릅니다. 서로 다른 프로세스 장비의 비교, 장비 모니터링 또는
장비 성능 확인과 같은 많은 적용에 가공하지 않은 CHARM®-2 웨이퍼가 사용될 수 있습니다.
그러나 레지스트 패턴 제품 웨이퍼에 생길 수 있는 것과 유사한 장치 손상을 예측하기 위해
측정된 전위 및 전류 밀도를 사용하는 적용에 있어서는 레지스트가 중요합니다.
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| 4. | Q. |
CHARM®-2 웨이퍼 상에서의 패턴 레지스트에 내 제품 레지스트 마스크를 사용할 수 있습니까? |
| A. |
예. 귀하의 제품 마스크를 사용하여 측정된 전위는 WCM이 제공한 CHARM®-2 호환 마스크를
사용해서 얻은 전위와 아주 유사하지만, 유용한 J-V 정보를 얻으려면 여러 다이의 J-V 결과를
"평균"내어야 합니다.
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| 5. | Q. |
많은 UV가 있을 수 있는 고 밀도 플라즈마에서
CHARM®-2 센서는 차징 손상과 UV 손상을 구분할 수 있습니까? |
| A. |
예. CHARM®-2 웨이퍼는 UV에 응답하지 않는 차징 센서만 포함하는 것이 아니라,
차징에 응답하지 않는 UV 센서까지 포함합니다. 결과적으로 CHARM®-2 웨이퍼를 사용하면
UV 효과와 차징 효과를 쉽게 구분할 수 있습니다.
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| 6. | Q. |
CHARM®-2는 일시적인 차징과 일정하게 유지되는 차징을 구분할 수 있습니까? |
| A. |
예. 이 정보는 CHARM®-2 J-V 도면으로부터 얻을 수 있습니다.
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| 7. | Q. |
선택한 프로세스 장비의 차징 특성에서 모니터링 트리프트를 경험한 적이 있습니까? |
| A. |
예. CHARM®-2 웨이퍼를 사용해서 장비 드리프트를 감시함으로써 얻게 되는 장점, 그리고
유지보수 절차의 개선에 이 정보가 사용되는 방법에 대한
좋은 예들이 아래 페이퍼에 설명되어 있습니다.
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Wafer Charging Monitors, Inc.